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我司主營AMAT TEL LAM  MKS SMC VAT等品牌半導體設備，零件。

由于FAB設備的部件型號比較多，不能一 一列舉，如果有其它型號的零部件需要，請隨時聯(lián)系我們。

聯(lián)系電話:021-6838 8387

我司上海九展自動化技術有限公司致力于為國內半導體制造企業(yè)提供快速高效的設備，部件，耗材和維修服務。

我們跟國內外多家設備制造商，經(jīng)銷商，零部件貿易商，晶圓廠，高校，研究所有長期的接觸和聯(lián)系，我們有能力保證品質并提供有競爭力的價格。

應用材料公司的CMOS和MtM領域的應用推動了對先進的150mm和200mm CVD技術的需求。超厚氧化物（≥20μm）;低溫處理（<200°C）;保形、低濕蝕刻率薄膜;需要具有可調折射率的摻雜薄膜來滿足這些器件技術的制造要求。這些薄膜加入了 Centura DXZ CVD 系統(tǒng)上可用的**工藝組合，從 TEOS、硅烷基氧化物和氮化物到低 k 電介質、應變工程和光刻薄膜。
DXZ CVD 系統(tǒng)配備了增強的功能，可可靠、仔細地處理各種 MtM 襯底（包括 SiC 晶圓），從負載鎖定晶圓映射到清晰的晶圓方向再到晶圓放置。

Centura DXZ 系統(tǒng)設計在成本（例如，零耗材的工藝套件）、吞吐量、易于維護和可靠性方面提供了顯著改進。該系統(tǒng)采用單晶圓、多腔室架構，可提供高達 80wph 的 TEOS 和 SiC 吞吐量（3,000? PE TEOS 和等離子硅烷）和高達 35wph 的 USG 吞吐量（2000? SACVD USG）。對稱設計和小腔室容積促進了沉積和清潔化學品的高效氣體利用，有助于降低總體擁有成本。A

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