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    靜電卡盤，是一種適用于大氣或真空環(huán)境的超潔凈薄片承載體、抓取搬運(yùn)設(shè)備的總稱。
    靜電卡盤系統(tǒng)由靜電吸附控制器、靜電吸附單元及組成。靜電吸附主機(jī)具有漏電保護(hù)、電流過(guò)載保護(hù)及高壓脈沖保護(hù)；靜電吸附單元電極采用高頻導(dǎo)體，表面一種采用氮化鋁陶瓷覆膜，另外一種采用聚酰亞胺薄膜覆膜，在保證輸出穩(wěn)定，同時(shí)避免高壓靜電壓尖銳擊穿。
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      在半導(dǎo)體制造行業(yè)中，卡盤是一種常見(jiàn)的夾緊裝置，用于固定工件以便進(jìn)行加工、測(cè)量、裝配等操作（就是固定住晶圓，不讓它亂動(dòng)）。卡盤是晶圓制造過(guò)程中，保證精度與良率的重要零部件。   
      根據(jù)其工作原理、結(jié)構(gòu)形式、夾緊方式等方面的不同，常見(jiàn)的卡盤可以分為：機(jī)械卡盤、真空卡盤、靜電卡盤等。其中靜電卡盤（簡(jiǎn)稱：ESC或E－Chuck）由于其對(duì)工件損傷小、精度高等特點(diǎn)，被**運(yùn)用于半導(dǎo)體制造工藝等需要精密加工的場(chǎng)景。
靜電卡盤主要有以下三大優(yōu)勢(shì)：
    吸附力均勻：靜電卡盤由于吸附作用均勻分布在晶圓表面，可以保證晶圓具有較好的平整度，從而具有更好的加工精度。
    污染?。簷C(jī)械卡盤與真空卡盤在工作中容易受到微小顆粒的污染，導(dǎo)致晶圓變形或表面劃傷。靜電卡盤對(duì)晶圓的污染較小，因此可保證晶圓加工過(guò)程中具有較高的良率。
    適用于真空環(huán)境：真空環(huán)境下，真空卡盤無(wú)法對(duì)晶圓實(shí)現(xiàn)吸附。靜電卡盤由于利用靜電力進(jìn)行吸附，因此在真空環(huán)境下依然可以保證較好的吸附性能。（半導(dǎo)體制造工藝中離子注入、化學(xué)氣相沉積（CVD）等環(huán)節(jié)需要在真空環(huán)境下進(jìn)行。）

靜電吸盤使用特點(diǎn)
    能在大氣和真空環(huán)境下同時(shí)使用；能吸附導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體及多孔材料；精簡(jiǎn)夾持搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，靜電吸附能耗低；吸附力均勻，吸附時(shí)不會(huì)出現(xiàn)局部受力；對(duì)大面積薄片工件輕軟支撐，吸附時(shí)不會(huì)產(chǎn)生傷痕和皺紋；能夠快速開(kāi)啟和關(guān)閉，對(duì)象物體背面不產(chǎn)生電位，不吸附周圍的灰塵。

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