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我司主營AMAT TEL LAM  MKS SMC VAT等品牌半導(dǎo)體設(shè)備,零件。

由于FAB設(shè)備的部件型號比較多,不能一 一列舉,如果有其它型號的零部件需要,請隨時(shí)聯(lián)系我們。

聯(lián)系電話:021-6838 8387

我司上海九展自動(dòng)化技術(shù)有限公司致力于為國內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)提供快速高效的設(shè)備,部件,耗材和維修服務(wù)。

我們跟國內(nèi)外多家設(shè)備制造商,經(jīng)銷商,零部件貿(mào)易商,晶圓廠,高校,研究所有長期的接觸和聯(lián)系,我們有能力保證品質(zhì)并提供有競爭力的價(jià)格。


    靜電卡盤,是一種適用于大氣或真空環(huán)境的超潔凈薄片承載體、抓取搬運(yùn)設(shè)備的總稱。
    靜電卡盤系統(tǒng)由靜電吸附控制器、靜電吸附單元及組成。靜電吸附主機(jī)具有漏電保護(hù)、電流過載保護(hù)及高壓脈沖保護(hù);靜電吸附單元電極采用高頻導(dǎo)體,表面一種采用氮化鋁陶瓷覆膜,另外一種采用聚酰亞胺薄膜覆膜,在保證輸出穩(wěn)定,同時(shí)避免高壓靜電壓尖銳擊穿。
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      在半導(dǎo)體制造行業(yè)中,卡盤是一種常見的夾緊裝置,用于固定工件以便進(jìn)行加工、測量、裝配等操作(就是固定住晶圓,不讓它亂動(dòng))??ūP是晶圓制造過程中,保證精度與良率的重要零部件。   
      根據(jù)其工作原理、結(jié)構(gòu)形式、夾緊方式等方面的不同,常見的卡盤可以分為:機(jī)械卡盤、真空卡盤、靜電卡盤等。其中靜電卡盤(簡稱:ESC或E-Chuck)由于其對工件損傷小、精度高等特點(diǎn),被**運(yùn)用于半導(dǎo)體制造工藝等需要精密加工的場景。
靜電卡盤主要有以下三大優(yōu)勢:
    吸附力均勻:靜電卡盤由于吸附作用均勻分布在晶圓表面,可以保證晶圓具有較好的平整度,從而具有更好的加工精度。
    污染?。簷C(jī)械卡盤與真空卡盤在工作中容易受到微小顆粒的污染,導(dǎo)致晶圓變形或表面劃傷。靜電卡盤對晶圓的污染較小,因此可保證晶圓加工過程中具有較高的良率。
    適用于真空環(huán)境:真空環(huán)境下,真空卡盤無法對晶圓實(shí)現(xiàn)吸附。靜電卡盤由于利用靜電力進(jìn)行吸附,因此在真空環(huán)境下依然可以保證較好的吸附性能。(半導(dǎo)體制造工藝中離子注入、化學(xué)氣相沉積(CVD)等環(huán)節(jié)需要在真空環(huán)境下進(jìn)行。)

靜電吸盤使用特點(diǎn)
    能在大氣和真空環(huán)境下同時(shí)使用;能吸附導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體及多孔材料;精簡夾持搬運(yùn)機(jī)構(gòu),靜電吸附能耗低;吸附力均勻,吸附時(shí)不會出現(xiàn)局部受力;對大面積薄片工件輕軟支撐,吸附時(shí)不會產(chǎn)生傷痕和皺紋;能夠快速開啟和關(guān)閉,對象物體背面不產(chǎn)生電位,不吸附周圍的灰塵。


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    靜電卡盤,是一種適用于大氣或真空環(huán)境的超潔凈薄片承載體、抓取搬運(yùn)設(shè)備的總稱。
    靜電卡盤系統(tǒng)由靜電吸附控制器、靜電吸附單元及組成。靜電吸附主機(jī)具有漏電保護(hù)、電流過載保護(hù)及高壓脈沖保護(hù);靜電吸附單元電極采用高頻導(dǎo)體,表面一種采用氮化鋁陶瓷覆膜,另外一種采用聚酰亞胺薄膜覆膜,在保證輸出穩(wěn)定,同時(shí)避免高壓靜電壓尖銳擊穿。
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      在半導(dǎo)體制造行業(yè)中,卡盤是一種常見的夾緊裝置,用于固定工件以便進(jìn)行加工、測量、裝配等操作(就是固定住晶圓,不讓它亂動(dòng))。卡盤是晶圓制造過程中,保證精度與良率的重要零部件。   
      根據(jù)其工作原理、結(jié)構(gòu)形式、夾緊方式等方面的不同,常見的卡盤可以分為:機(jī)械卡盤、真空卡盤、靜電卡盤等。其中靜電卡盤(簡稱:ESC或E-Chuck)由于其對工件損傷小、精度高等特點(diǎn),被**運(yùn)用于半導(dǎo)體制造工藝等需要精密加工的場景。
靜電卡盤主要有以下三大優(yōu)勢:
    吸附力均勻:靜電卡盤由于吸附作用均勻分布在晶圓表面,可以保證晶圓具有較好的平整度,從而具有更好的加工精度。
    污染?。簷C(jī)械卡盤與真空卡盤在工作中容易受到微小顆粒的污染,導(dǎo)致晶圓變形或表面劃傷。靜電卡盤對晶圓的污染較小,因此可保證晶圓加工過程中具有較高的良率。
    適用于真空環(huán)境:真空環(huán)境下,真空卡盤無法對晶圓實(shí)現(xiàn)吸附。靜電卡盤由于利用靜電力進(jìn)行吸附,因此在真空環(huán)境下依然可以保證較好的吸附性能。(半導(dǎo)體制造工藝中離子注入、化學(xué)氣相沉積(CVD)等環(huán)節(jié)需要在真空環(huán)境下進(jìn)行。)

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    能在大氣和真空環(huán)境下同時(shí)使用;能吸附導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體及多孔材料;精簡夾持搬運(yùn)機(jī)構(gòu),靜電吸附能耗低;吸附力均勻,吸附時(shí)不會出現(xiàn)局部受力;對大面積薄片工件輕軟支撐,吸附時(shí)不會產(chǎn)生傷痕和皺紋;能夠快速開啟和關(guān)閉,對象物體背面不產(chǎn)生電位,不吸附周圍的灰塵。


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